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光學鍍膜
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光學鍍膜
光學鍍膜光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。這些涂層可以顯著改變光學元件的達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。光學涂層可以直接應用于光學元件的表面、以調整其反射率等。除此外可以利用材料的特性與多個膜層的配合作用可以達到很多特殊效果。
常見鍍膜種類包含增透膜，寬帶增透膜，介質高反膜，金屬反射膜，金屬加強膜，金屬導電膜，透明導電膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。根據產品需求可進行膜層選擇。常見選用的鍍膜材料一般是氟化鎂、二氧化硅、氧化鋯等
鍍膜常用設備：電子束蒸發、熱蒸發。
常用鍍膜材料：氧化鈰、氧化鋁、氧化鉿、ITO、一氧化硅，二氧化硅、五氧化二鉭、五氧化二鈮、氧化鈦、金、銀、銅、鉻、鉻鎳合金、鋁、鈦。
溫度范圍：20-300℃。
*大厚度：150毫米。
鍍膜種類：增透膜，寬帶增透膜，介質高反膜，金屬反射膜，金屬加強膜，金屬導電膜，透明導電膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。
其他內容：透鏡、棱鏡、窗口片冷加工、膠合、中紅外加工等。